uv光氧和等離子廢氣處理設備各采用什么原理？

對于光氧等離子廢氣處理設備主要是利用了等離子分解技術和UV紫外光解技術結合，對廢氣和臭氣進行高效協(xié)同凈化處理：有機廢氣和惡臭氣體進入集成設備后，經(jīng)過UV紫外光束區(qū)時，被紫外光波高能高效率地照射，瞬間產(chǎn)生光解反應；經(jīng)過等離子體電場時，在納秒級時間范圍內(nèi)，產(chǎn)生裂變分解反應；如此協(xié)同高效地產(chǎn)生一系光解和分解反應，經(jīng)過多級凈化后從而達標排放。C波段光氧催化廢氣治理技術，是一種利用新型的復合納米高科技功能材料的技術，采用領先的三重祛異味原理。

1、一重凈化：采用UV雙波段照射廢氣分子，產(chǎn)生游離電子及電子空穴，生成極強的光氧還原功能，可氧化分解各種有機化合物和部分無機化合物，廢氣分子吸收了紫外線的能量后，細菌分子的DNA（脫氧糖核酸）與核蛋白之間的斷裂，造成核酸與蛋白的交聯(lián)破壞，達到一重除臭凈化作用；

2、二重凈化：光氧催化在釋放大量C波段紫外線氧化分解惡臭廢氣分子同時并產(chǎn)生臭氧，臭氧極易分解，有很強的氧化性能破壞分解細菌的細胞壁，能很快地擴散透進細胞內(nèi)，氧化分解有毒有害的廢氣分子，直接破壞廢氣大分子聚合物。

3.三重凈化：光觸媒納米粒子在特定波長的光線照射下受激生成電子空穴對，空穴分解催化劑表面吸附的水產(chǎn)生氫氧自由基，電子使其周圍的氧還原成活性離子氧，從而具備極強的氧化還原作用，將光催化劑表面的各種污染物摧毀，最后將其分解成無污染的水（H2O）和二氧化碳（CO2）。       

低溫等離子廢氣處理機理包含兩個方面：一是在高壓放電產(chǎn)生等離子體的過程中，高頻放電所產(chǎn)生的瞬間高能足夠打開一些有害氣體分子的化學能，使之分解為單質(zhì)原子或無害分子；二是等離子體由于是高壓放電產(chǎn)生，其中包含大量的高能電子、正負離子、激發(fā)態(tài)粒子和具有強氧化性的自由基，這些活性粒子和部分臭氣分子碰撞結合，在電場作用下，使臭氣分子處于激發(fā)態(tài)。當臭氣分子 獲得的能量大于其分子鍵能的結合能時，臭氣分子的化學鍵斷裂，直接分解成單質(zhì)原子或由單一原子構成得無害氣體分子。同時產(chǎn)生的大量·OH、·HO2、·O 等活性自由基和氧化性極強的O3，與有害氣體分子發(fā)生化學反應，最終生成無害產(chǎn)物。